Показать сообщение отдельно
Старый 15.08.2013, 20:49   #48
BluEs
Пользователь
 
Регистрация: 08.04.2008
Сообщений: 634
По умолчанию Ответ: Приборные измерения различий

Отжиг.
В результате вырубки, правки изменяется структура магнитного
материала - материал наклепывается, и этот процесс особенно выражен по периметру пластин. Ширина наклепа находится в пределах 0,4 ÷ 4 мм. Процесс правки приводит к наклепу в объеме пластины. Исходная структура представляет собой кристаллические зерна правильной формы, а наклепанная зона – участки материала с зернами, вытянутыми по форме и ориентированными в направлении движения инструмента.
Изменение структуры в результате наклепа приводит к изменению формы петли гистерезиса, увеличению коэрцитивной силы, снижению магнитной проницаемости.
В результате отжига материал приобретает прежнюю кристаллическую структуру, напряжения снимаются, а магнитные свойства восстанавливаются. Температура отжига определяется температурой рекристаллизации. Процесс отжига состоит из трех этапов: подъем температуры с определенной скоростью; выдержка и медленное снижение. Температурный режим отжига зависит от типа магнитного материала и вида отжига. Различают следующие виды отжига.
Отжиг с ограниченным доступом воздуха, который осуществляют в специальных герметичных контейнерах. Отжигу подвергаются магнитные материалы из электротехнической стали. Одновременно с восстановлением магнитных свойств пластины покрываются оксидной пленкой, которая обеспечивает изоляцию пластин в собранном магнитопроводе. Отжиг осуществляют при температуре 780 - 820 оС по определенному режиму (подъем температуры, выдержка и охлаждение).
Отжиг в восстановительной (водородной) среде способствует значительному росту кристаллических зерен, что увеличивает магнитную проницаемость. При этом магнитный материал очищается от вредных примесей за счет восстановления окислов железа, а примеси углерода и серы удаляются в виде газов по реакциям
С + 2Н2 → СН2
О + Н2 → Н2О
S + Н2 → Н2S.
В процессе водородного отжига не образуется изоляционная оксидная пленка. Отжигу в восстановительной среде подвергают пластины из электротехнической стали и некоторых марок пермаллоя при температуре 1000 - 1100 оС.
Отжиг в вакууме производят в специальных установках при вакууме порядка 10-4 МПа. Отжиг в вакууме применяют для пластин из электротехнической стали при температуре 780 - 820 оС, из низконикелевых пермаллоев (45Н) при температуре 1100 - 1250 оС и высоконикелевых - 1100 - 1150 оС.
Оксидная изоляционная пленка образуется при отжиге пластин из электротехнической стали при ограниченном доступе воздуха.
BluEs вне форума   Ответить с цитированием